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本发明提供一种成膜装置、基板处理装置、成膜方法。该成膜装置是在真空容器（１）内供给第１和第２反应气体来形成薄膜的成膜装置，包括：旋转台；从旋转台的周缘朝向旋转中心设置的第１反应气体供给部和第２反应气体供给部；设于第１反应气体供给部和第２反应...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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