下载用于孔加工的化学气相沉积装置及方法的技术资料

文档序号:41330215

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本发明实施例涉及一种用于孔加工的化学气相沉积装置及方法,用于孔加工的化学气相沉积装置包括:装置腔体、若干加热丝和绕丝机构。本发明实施例所提供的用于孔加工的化学气相沉积装置及方法,能够将预加工有孔的半导体工件置于装置腔体内,利用若干的加热丝对...
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