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本发明涉及真空灭弧室技术领域，尤其涉及一种真空灭弧室粒子捕捉结构及真空灭弧室，包括主屏蔽罩和磁场方向控制装置，所述主屏蔽罩设置于真空灭弧室瓷壳的内部，主屏蔽罩内部设置有粒子捕捉器，用于对静触头和动触头间隙的弧后粒子进行捕捉；所述磁场方向控制...
该专利属于西安西电开关电气有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安西电开关电气有限公司授权不得商用。

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