温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明为一种电子级多晶硅的轻刻蚀工艺。一种电子级多晶硅的轻刻蚀工艺，包括：(1)将硅块在1号槽中，采用高纯水冲洗；(2)硅块在含有氢氟酸、盐酸的混合溶液的2号槽中进行轻刻蚀；(3)硅块在3号槽中，采用高纯水冲洗；(4)硅块在4号槽中，采用洁...
该专利属于内蒙古大全半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过内蒙古大全半导体有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。