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去除衬底残留物的原位背面等离子体处理制造技术
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下载去除衬底残留物的原位背面等离子体处理的技术资料
文档序号:41227048
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一种处理衬底的方法,将该衬底装载至穿过基座的多个升降销上,该基座配置在处理室中。将该多个升降销降低以将该衬底搁置在该基座上。供应沉积气体混合物以将膜沉积在该衬底上。停止该沉积气体混合物的该供应。使用该多个升降销将该衬底升高至该处理室中的该基...
该专利属于朗姆研究公司所有,仅供学习研究参考,未经过朗姆研究公司授权不得商用。
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