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本发明公开的一种提高刻蚀均匀性的射频源装置及其刻蚀机，该射频源装置安装于反应腔室的顶部，包括：腔体上盖、绝缘顶盖、第一射频电极组件、第二射频电极组件、第一等离子气源组件和第二等离子气源组件，绝缘顶盖呈“凸”字形的台阶状结构；绝缘顶盖内对应的...
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