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本技术公开了一种可使超薄纳米晶带材均匀受热的热处理装置，涉及超薄纳米晶带材技术领域，包括底座和加热箱，所述底座的上方设置有放卷支架，且所述加热箱设置于放卷支架的输送端的一侧，所述加热箱远离放卷支架的一侧设置有收卷支架，且所述加热箱的上方设置...
该专利属于上海天新纳米技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海天新纳米技术有限公司授权不得商用。

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