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本发明提供了一种高纯度SiC粉体的制备装置和高纯度SiC粉体的制备方法,本发明首先在立式生长炉的内部顶端装载纳米级SiC粉体作为籽晶,其次,将立式生长炉的上部腔体的温度加热至生长温度,再次,通过第一气体预备室将第一载气和/或物料气体通入至上...该专利属于吉盛微(武汉)新材料科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过吉盛微(武汉)新材料科技有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种高纯度SiC粉体的制备装置和高纯度SiC粉体的制备方法,本发明首先在立式生长炉的内部顶端装载纳米级SiC粉体作为籽晶,其次,将立式生长炉的上部腔体的温度加热至生长温度,再次,通过第一气体预备室将第一载气和/或物料气体通入至上...