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本发明提供一种双曝光对准扫描曝光的方法，包括以下步骤：（１）利用光源通过投影镜头形成主光轴；（２）将第一掩模版和第二掩模版放在承版台上；（３）进行所述掩模版对准；（４）进行离轴硅片对准，将硅片放置在承片台上；（５）将所述硅片移动到所述主光轴...该专利属于上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司授权不得商用。