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一种适合对包含铜、电介质、阻挡层和钨中至少一种的图案化的半导体基材进行抛光的抛光垫。抛光垫包含聚合物基质；该聚合物基质是多元醇掺混物、多胺或多胺混合物和甲苯二异氰酸酯的聚氨酯反应产物。多元醇掺混物是１５－７７重量％的聚丙二醇和聚四亚甲基醚乙...
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