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本公开涉及一种用于液口距测量的装置、液口距测量方法和单晶炉，所述用于液口距测量的装置包括：坩埚，其中容纳有硅溶液，热屏，设置在所述坩埚的上方，所述热屏的下表面水平设置，所述下表面上开设有凹槽，所述凹槽与所述下表面的外轮廓同心布置，图像采集装...
该专利属于华坪隆基硅材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华坪隆基硅材料有限公司授权不得商用。

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