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本申请公开了透明导电基材和使用其的双面光刻方法。所述透明导电基材依次包括：第一抗蚀剂层、第一透明导电层、透明芯、第二透明导电层和第二抗蚀剂层；其中所述透明导电基材具有60％或更大的在400nm‑800nm范围内的总透射率(T<subg...
该专利属于杜邦电子公司所有，仅供学习研究参考，未经过杜邦电子公司授权不得商用。

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