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一种双层膜结构的埋嵌电阻薄膜材料制造技术
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文档序号:40544351
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本发明涉及一种双层膜结构的埋嵌电阻薄膜材料,所述材料包括衬底、铝‑镍铬双层薄膜,其中双层膜结构插入层薄膜为铝薄膜,顶层薄膜为镍铬薄膜,所述双层膜结构埋嵌式薄膜电阻材料沉积于衬底上,通过电子界面散射效应,实现了器件方阻的调控,调控范围从24至...
该专利属于南京大学所有,仅供学习研究参考,未经过南京大学授权不得商用。
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