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本发明涉及一种钽化学机械抛光工序中的表面清洗方法，其特征是：其清洗方法步骤如下，制备水抛液：按重量份数计（份）取去离子水，边均匀搅拌边加入表面活性剂０．５％－５％、ＦＡ／ＯＩＩ型螯合剂０．１－５％，ＦＡ／Ｏ?ＩＩ型阻蚀剂０．０１－５％，搅拌...
该专利属于河北工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过河北工业大学授权不得商用。

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