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本发明属于半导体加工技术领域，公开了气体混合结构、匀气装置及预清洗设备。气体混合结构包括进气接头。进气接头具有混合流道及出气口，第一注气设备用于沿第一方向向混合流道内通入等离子体，第二注气设备用于沿第二方向向混合流道内通入反应气体，第一方向...
该专利属于浙江求是创芯半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江求是创芯半导体设备有限公司授权不得商用。

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