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本申请提供一种光学器件的制备方法及光学器件，涉及光学器件技术领域。所述光学器件的制备方法包括：提供一基板；在基板的一侧制备光刻胶膜层；对光刻胶膜层进行激光直写曝光和显影处理，形成至少一个由多级阶梯结构组成的半球形的凹陷区域；对光刻胶膜层进行...
该专利属于天府兴隆湖实验室所有，仅供学习研究参考，未经过天府兴隆湖实验室授权不得商用。

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