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本发明提供一种MEMS器件及其制作方法。所述MEMS器件的制作方法包括：提供衬底；在衬底内形成埋层，埋层与衬底的顶面之间具有预定距离，以埋层上方的衬底作为振膜；从衬底的背面一侧刻蚀衬底并停止在埋层表面，形成位于衬底中的背腔；以及通过背腔至少...
该专利属于绍兴中芯集成电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过绍兴中芯集成电路制造股份有限公司授权不得商用。

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