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本发明的目的在于，提供一种在半导体光刻工艺中有用的、低蒸发损失的硬掩膜组合物，其涉及旋涂式硬掩模组合物及利用该组合物的图案化方法，所述旋涂式硬掩模组合物由化学式1表示的聚合物、表面活性剂、及有机溶剂组成，根据本发明的硬掩膜以优异的耐热特性而...
该专利属于YC化学制品株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过YC化学制品株式会社授权不得商用。

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