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本实用新型提供一种真空镀膜磁控溅射靶，涉及磁控溅射技术领域，本实用新型包括磁控溅射机，所述磁控溅射机的一侧设置有控制面板，所述磁控溅射机的表面设有调节装置，所述调节装置包括支架，所述支架的一端固定连接在磁控溅射机的表面，所述支架远离磁控溅射...
该专利属于烟台先浩真空科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过烟台先浩真空科技有限公司授权不得商用。

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