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基片处理装置和基片处理方法制造方法及图纸
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文档序号:39859665
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本发明提供一种能够提高吞吐量的基片处理装置和基片处理方法。一种基片处理装置,其包括:收纳基片的处理容器;向所述处理容器内供给处理气体的处理气体供给部;对所述处理容器内进行排气的排气部;加热所述处理容器的加热机构;和喷射用于冷却所述基片的冷却...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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