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本发明公开了晶圆双面抛光设备及工艺，涉及抛光技术领域，包括：第一抛光组件，其为竖向设置；第二抛光组件，其结构同于所述第一抛光组件且与所述第一抛光组件呈上下镜像设置；以及位于所述第一抛光组件与第二抛光组件之间的保持架；其中，所述第一抛光组件和...
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