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单相结构-高密度铟锡氧化物靶材的制备方法技术
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文档序号:3957781
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本发明是一种单相结构、高密度铟锡氧化物靶材的制备方法,是一种以常压烧结法制备ITO靶材的方法。本发明是利用化学共沉淀法制备ITO复合粉体,在ITO粉体中加入粘结剂进行造粒并干燥,对造粒过后的ITO粉体模压成型得到初坯,再对初坯冷等静压得到素...
该专利属于北京化工大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京化工大学授权不得商用。
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