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本发明属于高压VDMOS器件制备领域，具体为一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，包括装置外壳，所述装置外壳的顶端安装固定有液压杆，所述液压杆的底端安装固定有激光器，所述激光器的底端固定连接有安装板，所述安装板上贯穿开设有通槽，...
该专利属于杭州华芯微科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州华芯微科技有限公司授权不得商用。

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