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本实用新型公开了一种用于晶圆碱腐蚀、清洗及干燥的自动装置，包括清洗箱、晶圆本体和支撑组件，所述清洗箱底端四角处均固定安装有支腿，所述清洗箱内部设有清洗腔，所述清洗腔一侧下部安装有用于限定晶圆本体位置的支撑组件，所述清洗腔内设有清洗组件，所述...
该专利属于浙江艾科半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江艾科半导体设备有限公司授权不得商用。

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