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本实用新型公开了用于半导体处理设备的传输装置，所述半导体处理设备包括至少两层处于不同高度的工艺腔体，所述传输装置包括：主体；至少一个第一机械臂，所述第一机械臂被构造在所述主体上并且用于存取未经处理的晶圆；至少一个第二机械臂，所述第二机械臂被...
该专利属于上海普达特半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海普达特半导体设备有限公司授权不得商用。

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