温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种浸没类型的光刻设备。在所述设备中，多个加热和／或冷却装置被提供在投影系统的最终元件的邻近处，例如液体处理系统的阻挡构件上。所述加热和／或冷却装置可被用于例如控制在投影系统的最终元件中的温度梯度以控制其中的像差。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。