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本实用新型公开了一种应用于半导体湿法清洗的摆动装置，应用于半导体清洗领域，包括：运动电机组件、线性滑台、至少两个顶杆和摆动托盘；摆动托盘的一端至少连接一个顶杆，摆动托盘与顶杆连接的对端，至少连接一个顶杆；顶杆和运动电机组件分别与线性滑台连接...
该专利属于江苏启微半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏启微半导体设备有限公司授权不得商用。

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