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本发明提供一种用于处理基板的设备及方法。所述方法可包括：第一处理操作，在所述第一处理操作中氢自由基被转移到被调节为具有第一温度的基板以处理所述基板；及第二处理操作，在所述第二处理操作中所述氢自由基被转移到被调节为具有不同于所述第一温度的第二...
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