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CMOS图像传感器及其制造方法技术
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文档序号:39002338
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本发明公开了一种CMOS图像传感器及其制造方法,属于图像传感器技术领域。该CMOS图像传感器,包括半导体衬底;至少一个像素单元;多个第一深沟槽隔离结构,用于形成像素单元的边框;多个第二深沟槽隔离结构,形成于像素单元中,通过多个第一深沟槽隔离...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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