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提供抑制投影效应的影响、并且具备高转印性能的反射型光掩模以及反射型光掩模坯。本实施方式涉及的反射型光掩模坯(100)具备：基板(11)、形成在基板(11)上并反射入射光的反射部(17)、以及形成在反射部(17)上并吸收入射光的低反射部(18...
该专利属于凸版光掩模有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过凸版光掩模有限公司授权不得商用。

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