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本发明公开了一种PECVD设备结构中的陶瓷环，涉及PECVD薄膜技术领域，包括气柜，所述气柜的下侧安装有顶板，顶板的下侧安装有匀气盘，匀气盘的下侧安装有泵环，泵环上设置有滑块，泵环的下侧设置有陶瓷环，陶瓷环的下侧安装有加热盘，加热盘的内部设...
该专利属于沈阳富创精密设备股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳富创精密设备股份有限公司授权不得商用。

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