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本发明公开了一种力电性能好的铁电自由基薄膜，包括如下步骤：依次在衬底上生长缓冲层、底电极层和铁电功能层，退火后，将所述衬底剥离后即得铁电自由基薄膜；其中，所述生长均采用脉冲激光沉积技术；所述衬底和所述缓冲层生长之前采用腔内气氛环境等离子体表...
该专利属于湖南科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过湖南科技大学授权不得商用。

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