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本发明提供一种套刻精度的测量方法和测量图形，方法包括形成套刻精度测量图形，测量图形包括对角分布的两组沿X方向延伸的多个条状图形和对角分布的两组沿Y方向延伸的多个条状图形；多个条状图形包括前层图形和嵌入前层图形对应的中心位置的后层图形；相邻的...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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