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本发明提供一种基板处理方法和基板处理系统，在进行超临界干燥处理时防止或者至少抑制形成于基板的表面的图案的损坏。基板处理方法包括：脱气工序，去除处理液中的溶解气体；液膜形成工序，将被去除了所述溶解气体的所述处理液供给到基板的表面，来形成覆盖所...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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