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通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法技术
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文档序号:38808585
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公开了一种通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法。所述方法可以包含:使所述衬底与包括金属有机前体的第一气相反应物接触,所述金属有机前体包括选自由以下组成的群组的金属:铂、铝、钛、铋、锌和其组合。所述方法还可以包含:使所述衬底与包括四氧化钌...
该专利属于根特大学所有,仅供学习研究参考,未经过根特大学授权不得商用。
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