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本发明涉及一种圆形基片的抛光、清洗装置和方法。该装置包括抛光清洗组件，基片导向组件，基片驱动组件。基片由基片传送组件，经基片导向组件，在抛光清洗组件的旋转下，导入抛光清洗组件。基片驱动组件驱动基片旋转，液体注入组件供给化学抛光液体和清洗液体...
该专利属于谢鲜武所有，仅供学习研究参考，未经过谢鲜武授权不得商用。

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