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本发明涉及基板蚀刻处理装置，其包括：基板支撑装置，包括吸盘底座和吸盘销，吸盘底座以能够水平旋转的方式配置，吸盘销设置在吸盘底座的上部，用于支撑基板，基板支撑装置形成有从吸盘底座的底部面中心沿着上下方向朝向吸盘底座的内部延伸的吹扫气体流入孔，...
该专利属于得八益十意恩至所有，仅供学习研究参考，未经过得八益十意恩至授权不得商用。

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