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本实用新型提供一种半导体设备的工艺腔室及半导体设备,包括遮蔽盘和可升降的基座,基座用于将待加工工件传输至工艺位置或者装卸位置,遮蔽盘用于遮蔽基座上的待加工工件,遮蔽盘的朝向基座的一侧设置有第一加热部件,基座设置有第二加热部件,第一加热部件和...该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。
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本实用新型提供一种半导体设备的工艺腔室及半导体设备,包括遮蔽盘和可升降的基座,基座用于将待加工工件传输至工艺位置或者装卸位置,遮蔽盘用于遮蔽基座上的待加工工件,遮蔽盘的朝向基座的一侧设置有第一加热部件,基座设置有第二加热部件,第一加热部件和...