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本公开的碳化硅基板研磨液的再生方法，包括下列步骤：(A)将废弃研磨液通过第一过滤单元，以获得滤液；(B)调整滤液中的过锰酸钾浓度及氧化铝浓度、调整滤液的pH、并调整滤液中氧化铝的粒径分布；以及(C)将调整后的滤液通过具有第一孔径的第二过滤单...
该专利属于台湾永光化学工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾永光化学工业股份有限公司授权不得商用。

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