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用于生产在制造半导体部件的等离子体蚀刻室内使用的装置的方法，所述方法包括提供形成所述装置的基材的主体，在所述主体的表面上施加第一涂层，其中所述第一涂层包含金属和/或金属合金薄膜涂层以形成金属涂布的主体，在所述金属涂布的主体上施加第二涂层，其...
该专利属于欧瑞康表面解决方案股份公司，普费菲孔所有，仅供学习研究参考，未经过欧瑞康表面解决方案股份公司，普费菲孔授权不得商用。

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