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本实用新型涉及涂胶机技术领域，尤其涉及一种具有清理结构可均匀涂胶的涂胶机。其主要针对现有的涂胶机在涂胶完成后，胶水容易残留在涂胶机的涂覆部位，长时间不去清理，容易导致胶水干在表面上，进而影响后续对板材进行胶水涂覆，并且干燥后的胶水会增添工作...
该专利属于赫茨（上海）涂胶技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过赫茨（上海）涂胶技术有限公司授权不得商用。

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