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本发明涉及一种用于光刻设备(100A、100B)的场分面系统(300A、300B、300C、300D、300E、300F、300G、300H)，所述系统包括：光学元件(302)，该光学元件(302)包括基体(204)和可弹性变形的分面部分(...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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