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本发明涉及一种高压热处理装置用的气体管理组件，其包括：壳体，设置有内部空间；供气模块，设置于上述内部空间，用于高压热处理装置的内部腔室和外部腔室供应气体；排气模块，设置于上述内部空间，在上述内部腔室对热处理对象物进行排气；检测模块，在上述内...
该专利属于HPSP有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过HPSP有限公司授权不得商用。

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