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本实用新型提供一种大面积靶片用离子注入设备，包括有依次相连接的束流发生装置、离子注入机构、真空锁和设备前端传输模组；束流发生装置包括沿离子束传输方向依次相连接的离子源腔体、前拓展腔体、后拓展腔体、中间段腔体和准直腔体；离子源腔体中沿离子束传...
该专利属于浙江鑫钰新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江鑫钰新材料有限公司授权不得商用。

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