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本发明涉及一种电位限制式电子束投影掩模及光刻系统，掩模包括：掩蔽层、带电层。掩蔽层用于掩蔽电子，其上承载有特定几何图形，带电；带电层设置于所述掩蔽层(1)下方，至少一个，其上承载有与所述掩蔽层(1)相应几何图形，用于控制电子运动轨迹。解决了...
该专利属于陈惠玲所有，仅供学习研究参考，未经过陈惠玲授权不得商用。

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