温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型提供一种半导体清洗设备。所述半导体清洗设备，包括待过滤流体的循环管路区域；所述循环管路区域安装有连通待过滤流体管道的分离式过滤器，所述分离式过滤器倒置安装形成缓冲区，所述缓冲区用于对经所述待过滤流体管道流入的待过滤流体中的污染物进...
该专利属于上海积塔半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海积塔半导体有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。