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本申请公开了一种纳米压印母模的修复方法，所述纳米压印母模由模板胶制成，所述纳米压印母模附着有待清洗去除的子膜胶；所述模板胶为有机硅树脂，所述子模胶为聚酯树脂；所述方法包括：将碱性清洗液与纯净水混合均匀以对所述碱性清洗液进行稀释处理；使用经过...
该专利属于歌尔光学科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过歌尔光学科技有限公司授权不得商用。

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