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本实用新型公开了一种制程工艺气体的导流配件，包括配件主体，配件主体的轴向设有通孔，通孔的底部侧壁沿着配件主体的进气端倾斜向下延伸出一斜面。本实用新型在反应室下游炉腔出口处增加配件主体后，反应室炉腔上下方工艺气体的对流现象减轻，工艺气体反应产...
该专利属于广东天域半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东天域半导体股份有限公司授权不得商用。

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