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基于掩模法刻写2微米大模场光纤光栅的系统及工作方法，克服传统紫外纳秒激光和近红外飞秒激光刻写的缺陷，解决刻写易擦除和对光纤损耗大的缺点，获得紫外波段飞秒激光光源，实现高精度、低阶次的光纤布拉格光栅刻写，优化刻写光路，提高相位掩模板的利用率而...
该专利属于北京工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京工业大学授权不得商用。

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