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本发明提供了一种磁控管系统，该磁控管系统包括基板组件。基板组件限定壳体部分和电力馈通。溅射靶被布置在基板组件的壳体部分内。电磁组件被布置在基板组件的壳体部分内。电磁组件包括多个电磁体对和多个磁体对，其中，所述多个电磁体对和所述多个磁体对以交...
该专利属于OEM集团有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过OEM集团有限责任公司授权不得商用。

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